脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试


Autoria(s): 孔伟金; 沈健; 沈自才; 邵建达; 范正修
Data(s)

2006

Resumo

给出了以413nm作为写入波长,1053nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,计算表明膜系H3L(H2L)·9H0.5L2.03H满足光栅膜的要求.最后给出了制备得到的样品光学特性测试,结果表明在使用渡长和曝光波长处满足设计要求,其抗激光损伤阈值在光正入射和51.2°入射时分别为14.14J/cm^2和9.32J/cm^2,膜系的应力表现为压应力.

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4324

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12739

Idioma(s)

中文

Fonte

孔伟金;沈健;沈自才;邵建达;范正修.脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试,光子学报,2006,35(1):84-88

Palavras-Chave #光学薄膜 #多层电介质光栅 #膜系设 #性能分析
Tipo

期刊论文