高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量
| Data(s) |
2006
|
|---|---|
| Resumo |
提出了一种利用总积分散射（TIS）测量K9玻璃基片表面散射和体散射的实验方法。首先采用磁控溅射技术在基片表面沉积厚度为几十nm的金属Ag薄膜，然后将基片的表面和体区分开考虑，通过TIS测得了基片上下表面的均方根粗糙度。进而求得基片的总散射和表面散射．最后计算得到了体散射。分别利用TIS和原子力显微镜（AFM）测量了3个样品上表面所镀Ag膜的均方根粗糙度．两种方法所得的均方根粗糙度的数值相差不明显，差值分别为0．08，0．11和0．09nm，表明TIS和AFM的测量结果相一致。利用该方法测得3块K9玻璃基片 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
侯海虹;洪瑞金;范正修;易葵;邵建达.高光洁度玻璃基片的表面散射和体散射测量,强激光与粒子束,2006,18(4):609-611 |
| Palavras-Chave | #光学薄膜 #表面散射 #体散射 #总积分散射 #玻璃基片 #表面粗糙度 |
| Tipo |
期刊论文 |
