电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究
| Data(s) |
2006
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|---|---|
| Resumo |
采用电子束蒸发沉积技术制备了平板偏振膜。用Lambda900分光光度计测试了其光学性能。在中心波长1053nm处P偏振光的透过率Tp〉98％，S偏振光的透过率Ts〈0．5％，消光比T，／瓦〉200：1，带宽约为20nm。用波长1064nm，脉宽12ns的脉冲激光进行损伤阈值测试，获得P偏振光的损伤阈值为17．2J／cm^2，S偏振光的损伤阈值为19．6J／cm^2。用Nomarski显微镜对薄膜的损伤形貌进行观察，并用Alpha-500型台阶仪对损伤深度进行测试。结果表明，P偏振光的激光损伤为界面损伤与缺 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
毕军;黄建兵;占美琼;张伟丽;易葵.电子束蒸发制备平板偏振膜激光损伤特性研究,中国激光,2006,33(6):837-841 |
| Palavras-Chave | #光学薄膜 #薄膜 #平板偏振膜 #损伤阈值 #电子束蒸发 |
| Tipo |
期刊论文 |
