Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响


Autoria(s): 秦俊岭; 易葵; 邵建达
Data(s)

2006

Resumo

用磁控溅射法制备了Mo/Si薄膜,用AFM和XRD分别研究了Mo原子的溅射能量不同时,Mo/Si薄膜表面形貌和晶相的变化。通过比较发现,随着Mo原子溅射能量的增大,Mo/Si薄膜表面粗糙度增加,Mo和Si的特征X射线衍射峰也越来越强,并且Mo膜层和Si膜层之间生成了Mo-Si2。Mo原子的溅射能量是诱导非晶Si结晶和MoSi2生成的主要原因。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4214

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12684

Idioma(s)

中文

Fonte

秦俊岭;易葵;邵建达.Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响,功能材料与器件学报,2006,12(2):81-85

Palavras-Chave #光学薄膜 #Mo/Si #MoSi2 #溅射能量
Tipo

期刊论文