掺铈硅酸钆闪烁晶体的研究进展与发展方向


Autoria(s): 介明印; 赵广军; 何晓明; 曾雄辉; 庞辉勇; 张连瀚; 徐军
Data(s)

2005

Resumo

本文综述了铈离子掺质硅酸钆(Ce:Gd2SiO5)闪烁晶体的结构、闪烁性能、闪烁机理及晶体生长的研究现状,重点讨论了Ce:GsO闪烁晶体生长的研究进展;提出了硅酸钆闪烁晶体未来研究发展的几个方向为:大尺寸晶体的生长、高光输出的研究、混合型硅酸钆晶体的研究等。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/5869

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/12409

Idioma(s)

中文

Fonte

介明印;赵广军;何晓明;曾雄辉;庞辉勇;张连瀚;徐军.掺铈硅酸钆闪烁晶体的研究进展与发展方向,人工晶体学报,2005,34(1):136-143

Palavras-Chave #光学材料;晶体 #闪烁晶体 #闪烁性能 #晶体生长 #光输出 #铈离子 #大尺寸 #研究发展 #硅酸 #高光 #机理
Tipo

期刊论文