新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述


Autoria(s): 王现英; 方铭; 李青会; 沈德芳; 干福熹
Data(s)

2005

Resumo

L10有序FePt合金薄膜有大的各向异性能、矫顽力和饱和磁化强度,而且根据制备工艺条件的不同,其易磁化轴可以平行或垂直于膜面,因此极有可能成为下一代超高密度磁存储的介质,近年来引起了广泛的关注,详细介绍了FePt薄膜近年来的研究结果,分析了其大矫顽力的机制、降低有序化温度、控制易磁化轴取向、降低粒子间相互作用的方法等对磁存储至关重要的问题,并对其在磁存储中的应用前景作了分析。

Identificador

http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/3871

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/11315

Idioma(s)

中文

Fonte

王现英;方铭;李青会;沈德芳;干福熹.新型磁存储介质L10有序FePt薄膜研究综述,材料导报,2005,19(6):91-94

Palavras-Chave #光存储 #Pt薄膜 #磁存储介质 #研究综述 #Fe #粒子间相互作用 #饱和磁化强度 #制备工艺条件 #易磁化轴 #合金薄膜 #超高密度 #研究结果 #详细介绍 #矫顽力 #有序化
Tipo

期刊论文