一种新的光刻机多成像质量参数的原位检测技术
| Data(s) |
2006
|
|---|---|
| Resumo |
随着光刻特征尺寸的不断减小，尤其是随着分辨力增强技术的使用，像质参数的原位检测已成为先进的投影光刻机中不可或缺的功能。然而现有的每种技术均只能检测有限的几种像质参数。提出了一种新的基于像传感器的光刻机多成像质量参数原位检测（MIQM）技术。该技术通过对原有的测量模型进行修正和扩展，从而在精确测茸低阶成像质量参数的同时能高精度地测量高阶成像质量参数。此外，该技术是基于空间像测量的像质参数原位检测技术，从而具有速度快、稳定性好等优点。通过该技术的低阶像质参数测量精度与原有技术相近，而高阶像质参数测量重复精度优 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
王帆;王向朝;马明英;张冬青;施伟杰.一种新的光刻机多成像质量参数的原位检测技术,中国激光,2006,33(4):543-548 |
| Palavras-Chave | #测量 #光刻 #投影物镜 #成像质量 #原位检测 |
| Tipo |
期刊论文 |
