深刻蚀高密度熔融石英光栅
| Data(s) |
2006
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|---|---|
| Resumo |
深刻蚀高密度熔融石英光栅是一种新型高效的衍射光学元件，具有衍射效率高、成本低、抗损伤，能在高强度激光条件下工作等优点。给出了利用感应耦合等离子体（ICP）技术制作熔融石英深刻蚀光栅的详细过程，并在一定的优化条件下制作了一系列不同周期、开口比和深度的高质量深刻蚀石英光栅。实验得到的最大刻蚀深度为4μm，并且在600l／mm的高密度条件下得到了刻蚀深度为1．9μm的高深宽比石英光栅。光栅侧壁陡直，表面平整，没有聚合物沉积。所制作的熔融石英光栅元件在高强激光环境、光谱仪、高效滤波器和波分复用系统等领域中有非常广 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
王顺权;周常河;茹华一;张妍妍.深刻蚀高密度熔融石英光栅,中国激光,2006,33(2):175-178 |
| Palavras-Chave | #光栅 #深刻蚀 #感应耦合等离子体 #熔融石英 |
| Tipo |
期刊论文 |
