基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术
| Data(s) |
2006
|
|---|---|
| Resumo |
在高数值孔径、低工艺因子的光刻技术中，投影物镜彗差对光刻质量的影响变得越来越突出，因而需要一种快速、高精度的彗差原位测量技术。为此提出了一种新的基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术，利用国际上公认的半导体行业光刻仿真软件PROLITH对该方法的测量精度进行了仿真分析。结果表明，与基于硅片曝光的彗差测量方法相比，基于空间像的彗差测量技术速度上的优势十分明显。其测量精度优于1．4nm，较国际前沿的多照明设置空间像测量技术（TAMIS）提高30％以上，测量速度提高1／3左右。在ASML公司的PAS5500型 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
王帆;王向朝;马明英;张冬青;施伟杰.基于双线空间像线宽不对称度的彗差测量技术,光学学报,2006,26(5):673-678 |
| Palavras-Chave | #光学测量 #光刻 #像差 #投影物镜 #成像质量 #泽尼克系数 |
| Tipo |
期刊论文 |
