过滤电弧沉积TiN、ZrN和TiN/CrN多层纳米薄膜的性能比较


Autoria(s): 李成明; 孙晓军; 曹尔妍; 吕反修; 唐伟忠
Data(s)

2002

Resumo

用过滤电弧离子镀(FAMIP)技术在高速钢基体上沉积了TiN、ZrN单层薄膜和TiN/CrN多层纳米薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)观察了薄膜及其划痕的表面形貌;用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的相组成,结合显微探针仪、划痕试验机、金相显微镜和钻床,研究了金属陶瓷单层和多层纳米薄膜的性能并进行比较。研究结果表明:3种薄膜的临界载荷值均大于80N,多层纳米薄膜的耐磨性明显优于2种单层薄膜。

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/34712

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/7101

Idioma(s)

中文

Publicador

科学出版社

Tipo

会议论文