低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜


Autoria(s): 刘力锋; 陈诺夫; 张富强; 陈晨龙; 李艳丽; 杨少延; 刘志凯
Data(s)

30/06/2004

Resumo

利用质量分离的低能离子束技术 ,获得了Fe组分渐变的Fe Si薄膜。利用俄歇电子能谱法 (AES)、X射线衍射法 (XRD)以及X射线光电子能谱法 (XPS)测试了薄膜的组分、结构特性。测试结果表明 ,在室温下制备的Fe Si薄膜呈非晶态。非晶薄膜在 40 0℃下退火 2 0min后晶化 ,没有Fe的硅化物相形成。退火后Fe Si薄膜的Fe组分从表面向内部逐渐降低。

国家自然科学基金 ( 60 1760 0 1,60 3 90 0 72 )

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/42156

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/6411

Idioma(s)

中文

Fonte

稀有金属.2004,28(3):558-562

Palavras-Chave #低能离子束 # # #薄膜
Tipo

期刊论文