低能离子束方法制备Fe组分渐变的Fe-Si薄膜
Data(s) |
30/06/2004
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Resumo |
利用质量分离的低能离子束技术 ,获得了Fe组分渐变的Fe Si薄膜。利用俄歇电子能谱法 (AES)、X射线衍射法 (XRD)以及X射线光电子能谱法 (XPS)测试了薄膜的组分、结构特性。测试结果表明 ,在室温下制备的Fe Si薄膜呈非晶态。非晶薄膜在 40 0℃下退火 2 0min后晶化 ,没有Fe的硅化物相形成。退火后Fe Si薄膜的Fe组分从表面向内部逐渐降低。 国家自然科学基金 ( 60 1760 0 1,60 3 90 0 72 ) |
Identificador | |
Idioma(s) |
中文 |
Fonte |
稀有金属.2004,28(3):558-562 |
Palavras-Chave | #低能离子束 #硅 #铁 #薄膜 |
Tipo |
期刊论文 |