微桥结构Ni膜杨氏模量和残余应力研究


Autoria(s): 周勇; 王明军; 杨春生; 陈吉安; 王莉; 丁桂甫; 张亚民; 高孝裕; 张泰华
Data(s)

25/08/2004

Resumo

采用MEMS(MicroelectromechanicalSystems)技术研制了镍(Ni)膜微桥结构试样,应用陶瓷压条为承力单元,与纳米压痕仪XP系统的Berkovich三棱锥压头相结合,解决了较宽Ni膜微桥加载问题。测量了微桥载荷与位移的关系,并结合微桥力学理论模型得到了Ni膜微桥的杨氏模量及残余应力,其值分别为190.5GPa和146MPa,与应用纳米压痕仪直接测得的带有Si基底的Ni膜杨氏模量186.8±7.34GPa相吻合。

国家重点基础研究发展规划(973)项目-“集成微光机电系统研究”子项目(G1999033103)资助。

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/41830

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/6248

Idioma(s)

中文

Fonte

现代科学仪器.2004(4):24-27

Palavras-Chave #Ni膜微桥 #MEMS技术 #力学性能
Tipo

期刊论文