Mn注入n型Ge单晶的特性研究
| Data(s) |
25/03/2005
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| Resumo |
采用离子能量为100keV,剂量为3×1016cm-2的离子注入技术,室温下往n型Ge(111)单晶衬底注入Mn+离子,注入后的样品进行400℃热处理。利用X-射线衍射法(XRD)和原子力显微镜(AFM)对注入后的样品进行了结构和形貌分析,俄歇电子能谱法(AES)进行了组分分析,交变梯度样品磁强计(AGM)进行了室温磁性测量。结果表明原位注入样品的结构是非晶的,热处理后发生晶化现象。没有在样品中观察到新相形成。Mn离子较深的注入进Ge衬底,在120nm处Mn原子百分比浓度达到最高为8%。热处理后的样品表现出了室温铁磁特性。 国家自然科学基金G60176001及G60390072 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
功能材料与器件学报.2005,11(1):15-18 |
| Palavras-Chave | #离子注入 #锗 #铁磁性 #稀磁半导体 |
| Tipo |
期刊论文 |
