微电子与微电子机械系统(MEMS)中的现代光学测试技术
| Data(s) |
30/12/2001
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| Resumo |
介绍了微电子和微电子机械系统 (MEMS)中几种常用的变形和形貌测量方法以及相关的测量设备。其中相移云纹干涉技术用于微电子器件的面内位移测量 ,灵敏度可达到纳米量级。显微栅线投影技术用于MEMS的离面变形和形貌测量 ,灵敏度可达 0 .1微米。 |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
机械强度.2001,23(4): 447-451 |
| Palavras-Chave | #微电子机械系统 #微电子 #光测力学 |
| Tipo |
期刊论文 |
