加载速率对位错发射、层错宽度及位错速度影响


Autoria(s): 周国辉; 焦治杰; 武骏; 周富信; 褚武扬
Data(s)

25/02/1999

Resumo

应用分子动力学方法研究了Cu和Al单晶在Ⅱ型加载条件下,加载速率对位错发射、层错宽度W及位错速度V_d的影响。结果表明,加载速率对W和V_d有显著影响。随着加载速率的增大,层错宽度减小,位错速度增大。当加载速率达到某一临界值时,能量不仅以发射位错的形式释放,而且形成孪晶,以降低体系的能量。

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/40694

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/5680

Idioma(s)

中文

Fonte

北京科技大学学报.1999,21(1): 26-28

Palavras-Chave #分子动力学 #偏位错 #位错分解 #Cu #Al
Tipo

期刊论文