扩硼Si在连续CO_2激光辐照后的特性


Autoria(s): 李元恒; 张玉峰; 吴书祥; 杜永昌
Data(s)

1982

Resumo

本文研究了高温高浓度扩硼Si在连续CO_2激光辐照后表面薄层电阻随激光功率密度和扫描速度的变化.实验发现,一定功率密度和扫描速度的CO_2激光辐照可使扩硼Si的载流子面密度提高到原来的一倍半到三倍左右.

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/38034

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/4368

Idioma(s)

中文

Fonte

半导体学报.1982,3(4):340-342

Palavras-Chave #连续CO_2激光 #激光辐照 #薄层电阻 #扩硼 #激光功率密度 #辐照后 #激光扫描速度 #电激活 #面密度
Tipo

期刊论文