硅表层扩散杂质在CW-CO_2激光辐照后的电激活特性


Autoria(s): 张玉峰; 杜永昌; 李大军; 李元恒
Data(s)

1984

Resumo

本文研究了硅中高温扩散硼和磷样品在CW-CO_2激光作用下薄层电阻、载流子面密度、迁移率和表面薄层(450)载流子浓度的变化。经过激光处理后样品表面一薄层载流子浓度超过了杂质的固溶度极限。通过高温热退火和再次激光辐照研究了“超固溶度”的不稳定性。同时对样品的正面和背面激光辐照对载流子的电激活效果作了比较。

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/37622

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/4162

Idioma(s)

中文

Fonte

北京大学学报(自然科学版).1984,20(5):8-12

Palavras-Chave #薄层电阻 #电激活 #扩散杂质 #扩硼 #激光辐照 #辐照后 #固溶度极限 #CO_2激光 #面密度
Tipo

期刊论文