第7届国际等离子体化学会议(ISPC-7)
| Data(s) |
1986
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| Resumo |
<正> Ⅰ.概况 国际等离子体化学会议(ISPC)每两年举行一次,主要交流等离子体化学如下几方面的研究和发展情况:合成,诊断,等离子体刻蚀,等离子体沉积和聚合,模型,表面作用以及熔化、气化、等离子体喷涂等。ISPC-7由荷兰Ejndhoven技术大学负责组织,Philips公司支持,在Philips会议中心举行。会议期1985年7月1—5日。第一天样品展览, |
| Identificador | |
| Idioma(s) |
中文 |
| Fonte |
力学进展.1986,16(3):412 |
| Palavras-Chave | #等离子体化学 #等离子体喷涂 #等离子体技术 #等离子体诊断 #等离子体刻蚀 #高频等离子体 #等离子体发生器 #热力学性质 #荧光光谱 |
| Tipo |
期刊论文 |
