我国等离子体工艺研究进展

扼要综述了我国等离子体材料工艺研究的新近进展。内容包括：热等离子体源，等离子冶金、化工、超细粉合成、喷涂；低气压非平衡等离子体源，镀膜，表面改性，等离子浸没离子注入；电晕放电，介质阻挡放电，滑动弧等及其应用。当前，各类薄膜制备和表面改性的研究工作最为活跃。