磁过滤对多弧离子镀(TiAl)N薄膜的影响


Autoria(s): 李成明; 张勇; 曹尔妍; 薛明伦
Data(s)

2001

Resumo

介绍了利用过滤电弧离子镀沉积(TiAl) N 薄膜初步的研究结果。在电弧靶材前沿的磁场作用下, 有效 减小了薄膜的宏观颗粒尺寸, 并极大地降低了颗粒密度。同时, 过滤电弧的作用, 使偏压对膜成分的影响减弱, 薄膜的硬度随膜中铝含量的增加而提高, (TiAl) N 的抗氧化能力明显提高。

Identificador

http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/15758

http://www.irgrid.ac.cn/handle/1471x/449

Palavras-Chave #力学
Tipo

期刊论文